無錫純水設備分享半導體清洗超純水設備的工作原理及工藝流程

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2022-11-13 20:38:46無(wu)錫草莓视频app在线入口ios環保科技(ji)有限(xian)公司516

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一、半導(dao)體清洗(xi)用(yong)超(chao)純水設備概述

半導體清洗用超純水設備主要應(ying)用在半導體清洗行業，草莓视频app在线入口ios環保該(gai)設備采用先進(jin)的反滲透技術(shu)和EDI技術(shu)，保證設備的質(zhi)量(liang)和出水水質。無錫草莓视频app在线入口ios整體采(cai)用先(xian)進的不鏽(xiu)鋼材(cai)腐蝕能力(li)強，同時(shi)也(ye)不會(hui)出現生鏽問(wen)題(ti)，質量可靠，受到用戶的一致好評。

無錫純水設備.jpg

二(er)、半導體清洗用超純水設備工作原理(li)

EDI裝置將(jiang)離子交換樹(shu)脂(zhi)充(chong)夾在陰(yin)/陽離(li)子交換(huan)膜之間(jian)形(xing)成(cheng)EDI單元(yuan)。EDI工作(zuo)原(yuan)理如(ru)下圖(tu)所(suo)示(shi)。EDI組(zu)件中將一定數(shu)量的EDI單元(yuan)間用網(wang)狀物隔開，形(xing)成(cheng)濃(nong)水室(shi)。又在單元(yuan)組兩端設置陰/陽(yang)電極(ji)。在直(zhi)流電(dian)的推(tui)動(dong)下，通(tong)過淡水室水流中的陰陽離子(zi)分(fen)別穿過(guo)陰陽離子交換膜進入到(dao)濃水室而在淡(dan)水室中(zhong)去除。而(er)通過濃水室的水將離子帶出(chu)係統(tong)，成為(wei)濃水.EDI設備一般以(yi)反(fan)滲(shen)透(tou)(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導率一(yi)般(ban)是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻(zu)率(lv)可(ke)以高(gao)達(da)18MΩ.cm(25℃)，但是根(gen)據(ju)去(qu)離子水用途和(he)係統配置設置(zhi)，EDI純水適(shi)用於(yu)製備電阻率要求(qiu)在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。

三、半導體清洗用超純水設備製備工藝(yi)
1、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→粗混合床(chuang)→精混(hun)合床→純水箱(xiang)→純水泵→紫(zi)外線殺菌器→拋(pao)光混床→精密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝(zhuang)置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或(huo)0.5μm精(jing)密過濾器→用水點。(≥18MΩ.CM)(較新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加(jia)藥(yao)機(PH調(diao)節)→中間水箱→第二級反滲透(正(zheng)電荷(he)反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外(wai)線(xian)殺(sha)菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點。(≥17MΩ.CM)(較新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵(beng)→EDI裝置→純水箱→純水泵(beng)→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(dian)。(≥15MΩ.CM)(較新工藝)
5、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→純水泵→粗(cu)混合(he)床→精混合床→紫外線殺菌(jun)器→精密(mi)過濾器→用水點。(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

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